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抛光时间。要得到好的抛光效果,就需要花费一定的时间。若抛光时间太短,只能获得没有光泽的梨皮状表面。若时间过长,不仅溶解损失增大,而且加工表面会出现污点或斑点。因此存在着一个适当的时间范围,它受材料、抛光液的组成及抛光温度等因素的影响,通常难以预测,除用实验测定外,没有其他方法。化学抛光中往往产生氢气,这是抛光具有氢脆敏感性材料时必须注意的问题。另外,抛光液温度高达100~200℃时,还会产生退火作用。为了把氢脆和退火作用的影响减小到,就必须在适宜的温度范围内选择尽可能短的抛光时间。
化学抛光是金属表面通过有规则溶解达到光亮平滑。在化学抛抛光材料,抛光蜡(4张) 光过程中,钢铁零件表面不断形成钝化氧化膜和氧化膜不断溶解,且前者要强于后者。由于零件表面微观的不一致性,表面微观凸起部位优先溶解,且溶解速率大于凹下部位的溶解速率;而且膜的溶解和膜的形成始终同时进行,只是其速率有差异,结果使钢铁零件表面粗糙度得以整平,从而获得平滑光亮的表面。抛光可以填充表面毛孔、划痕以及其它表面缺陷,从而提高疲劳阻力、腐蚀阻力
铝合金产品传统的三酸抛光的化学工艺配方为:磷酸80%,硫酸10%,10%。目前磷酸的价格为5400元/吨,硫酸700元/吨,2300元/吨(以上价格仅作为参考)。那么我们传统的配方成本为:磷酸800ml*1.70*5.40=7.344元,硫酸100ml*1.84*0.7=0.13元,100ml*1.40*2.30=0.32元,那么一升抛光液合计的成本为7.8元。目前我公司研制成功的OY系列铝处理化学抛光工艺,磷酸为500ml/l,硫酸500ml/l,光亮剂20ml/l, 成本核算为:500ml*1.70*5.40=4.59元;硫酸500*1.84*0.7=0.644;光亮剂计0.65元,合计5.85元。因此,我公司OY系列铝处理工艺,成本足足下降了20%。而且OY系列产品在处理铝的时候,无任何黄烟,大大的改善了生产环境;处理成品率可以在到98%以上,几乎无因为抛光而造成的报废品;光亮度好,与三酸处理无异;维护管理容易,溶液性能稳定。因此,我公司极力推荐使用本产品。
这两个概念主要出半导体加工过程中,的半导体基片(衬底片)抛光沿用机械抛光、例如氧化镁、氧化锆抛光等,但是得到的晶片表面损伤是极其严重的。直到60年代末,一种新的抛光技术——化学机械抛光技术(CMP Chemical Mechanical Polishing )取代了旧的方法。CMP技术综合了化学和机械抛光的优势:单纯的化学抛光,抛光速率较快,表面光洁度高,损伤低,平整性好,但表面平整度和平行度差,抛光后表面一致性差;单纯的机械抛光表面一致性好,表面平整度高,但表面光洁度差,损伤层深。化学机械抛光可以获得较为平整的表面,又可以得到较高的抛光速率,得到的平整度比其他方法高两个数量级,是能够实现全局平面化的有效方法。
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